nanoArch? / microArch??是可以實現高精度大幅面微尺度3D打印的設備系統,它采用的是面投影微立體光刻(PμSL:Projection Micro Stereolithography)技術。該技術使用高精密紫外光刻投影系統,將需打印圖案投影到樹脂槽液面,在液面固化樹脂并快速微立體成型,從數字模型直接加工三維復雜的模型和樣件,完成樣品的制作。該技術具備成型效率高、打印精度高等突出優勢,被認為是目前最有前景的微納加工技術之一。
打印精度:2μm 打印尺寸: mode1:3.84*2.16mm2*10mm mode2:38.4mm*21.6mm*10mm mode3:50mm*50mm*10mm
打印精度:10μm 打印尺寸: mode1:19.2mm*10.8mm*45mm mode2:94mm*52mm*45mm mode3:94mm*52mm*45mm
打印精度:25μm 打印尺寸:48mm(L)×27mm(W)×50mm(H)
打印尺寸:100mm(L) * 100mm(W) * 75mm(H)
nanoArch? In系列工業級3D打印系統為超精密增材制造量身定做,滿足當今工業客戶需求。憑借全球領先的超高打印精度(2um ~ 50um)、超精密的加工公差控制能力(+/- 5um ~ +/- 25um),nanoArch ? In打印系統可為客戶提供免模具的超高精度快速打樣驗證。
超高精度微尺度3D打印設備產品手冊-科研
超高精密3D打印設備產品手冊-工業
CERES微納金屬增材設備
光學系統:405nm光源,定制化設計加工的投影鏡頭,分辨率達2μm
運動系統:亞微米級多軸運動平臺,高精密運動控制系統
拼接打印:微米級拼接融合技術,解決打印精度與大尺寸成型之間的矛盾
軟件系統:友好的圖形界面控制系統,工藝窗口開源
輔助系統:實時監控相機、沉浸式繃膜、氣泡刮刀等
電力需求
100-240V/單相/50/60Hz/15A; 供電電網波動: <5%; 電網地線符合機房國標要求。
環境溫度
22±3℃
環境濕度
40%-60%
需避免的場合
垃圾、灰塵、油霧多的場所; 震動以及沖擊多的場所; 能觸及藥品和易燃易爆物的場所; 高頻干擾源附近的場所; 溫度會急劇變化的場所;