摩方材料首臺自主研發桌面級高精度微納3D打印設備P140成功交付 精度高達10微米

摩方材料首臺自主研發桌面級高精度微納3D打印設備P140成功交付

精度高達10微米

        摩方材料作為微納尺度3D打印技術全球領先方案提供商，代表著顛覆性的全球高精度精密制造技術。自2016年成立至今，摩方的成長離不開客戶的支持與肯定。我們始終堅持客戶至上，基于市場需求，不斷提升專業技術及研發能力，持續為客戶優化3D打印解決方案，為其創造價值。

        2018年6月15日，摩方材料首臺自主研發桌面級高精度微納3D打印設備P140成功按時交付給湖南大學，這是摩方人夜以繼日的努力成果。同時，也是摩方發展史上又一個關鍵性里程碑。

        nanoArch P140是桌面級高精度微尺度3D打印設備系統，光學精度及打印層厚可達10微米，在30微米以上超高精度領域占有絕對的優勢。nanoArch P140采用面投影微立體光刻（PμLSE：Projection MicroLitho Stereo Exposure）技術。該技術使用高精密紫外光刻投影系統，將需打印圖案投影到樹脂槽液面，在液面固化樹脂并快速微立體成型，從數字模型直接加工成三維復雜結構的模型和樣件。該技術具備成型效率高、打印精度高等突出優勢，被認是目前最有前景的微納加工技術之一。

nanoArch P140 參數

nanoArch P140 應用領域

        nanoArchP140可用于打印復雜三維微結構，仿生材料，微傳感器，石墨烯三維結構的設計、制備及力學性能研究，生物醫療，組織工程學，微流控，生物芯片，太赫茲等領域。

nanoArch P140 應用案例

關于摩方
        深圳摩方材料科技有限公司于2016年在中國深圳、美國波士頓及香港同步創立，立足中國，面向全球。公司核心技術團隊由公司聯合創始人兼麻省理工學院終身教授方絢萊教授領導；中高層科研團隊來自多個領域，并擁有豐富的產業化經驗，目前，在摩方擔任資深科學家的有美國工程院院士、光學專家William Plummer教授，及被譽為“全球眼鏡學之父”的Mo Jalie教授。

        微納米尺度 3D 打印（微納結構增材制造）是目前全球最前沿的先進制造領域之一。復雜三維微納結構在微納機電系統、精密光學、生物醫療、組織工程、新材料、新能源、高清顯示、微流控器件、微納光學器件、微納傳感器、微納電子、生物芯片、光電子和印刷電子等領域有著巨大的產業需求。微納尺度 3D打印和納米架構分別在2014年和2015年被美國麻省理工學院《麻省理工科技評論》（MIT TechnologyReview）列為該年度十大具有顛覆性的創新技術。

        深圳摩方材料科技有限公司自主研發的3D打印系統已被美國麻省理工學院（M.I.T）、阿聯酋Masdar Institute、南京大學、西安交通大學、中國科學院納米所、香港城市大學等世界頂級科研機構使用。