P140（10微米）/ S140（10微米，帶拼接）
發布日期：2017-06-01
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nanoArchTM是采用PμLSE（面投影微立體光刻）技術，用于實現高精度多材料微納尺度3D打印的設備。通過將紫外光投影到液態樹脂表面使其固化，逐層累加從而完成產品的制作。通過一次曝光可以完成一層的制作，具備成型效率高、生產成本低、打印精度高等突出優勢，并能實現多材料的微納尺度材料三維打印。微結構分辨率可達10μm。nanoArch™ P140/S140 的XY 打印精度高達到10μm，Z向打印精度10μm，打印幅面14.5*8.2 mm2，可擴展到73*50 mm2，普遍適用于高校或科研院所的科學實驗，以及企業研發等，應用在血管支架，微通道，微連接器，微流控芯片，太赫茲器件等領域。
在微納加工領域，BMF Material擁有多年的實踐經驗，針對客戶在設備使用中可能出現的工藝難題，提供簡易高效的技術支撐方案；并可幫助客戶挖掘廣泛的科學家研究網絡，促進材料研究。
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