南京大學國家重點實驗室完成nanoArchP110 驗收
發布日期：2017-07-14
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2017年6月30日，摩方材料出品的微納米尺度3D打印系統設備nanoArch™ P110由南京大學正式通過驗收。這是摩方材料成長過程中，繼nanoArch™ P120之后的又一里程碑，其代表著摩方材料在通往高精密微納打印的道路上，逐漸邁向成熟，如同摩方材料公司核心價值觀一樣，穩中求進，逐漸強大。
nanoArch™采用PμLSE（面投影微立體光刻）技術，是用于實現高精度多材料微納尺度3D打印的設備。其通過將紫外光投影到液態樹脂表面使其固化，逐層累加從而完成產品的制作，即通過一次曝光可以完成一層的制作。
nanoArch System 是基于PULSE技術(面投影微立體光刻技術)的微納米級3D打印系統，PμLSE技術(面投影微立體光刻技術)被認為是目前最有前景的微納加工技術之一。
微納3D打印機nanoArch P110是采用PμLSE（面投影微立體光刻）技術，用于實現高精度多材料微納尺度3D打印的設備。通過將紫外光投影到液態樹脂表面使其固化，逐層累加從而完成產品的制作。通過一次曝光可以完成一層的制作，具備成型效率高、生產成本低、打印精度高等突出優勢，并能實現多材料的微納尺度材料三維打印。微結構分辨率可達2μm。
在微納加工領域，BMF Material擁有多年的實踐經驗，針對客戶在設備使用中可能出現的工藝難題，提供簡易高效的技術支撐方案；并可幫助客戶挖掘廣泛的科學家研究網絡，促進材料研究。
微納3D打印機nanoArch P110有以下四個顯著的產品特點：
(1).可定制高定位精度的光學系統和運動平臺，兩者最高分辨率皆可達到2μm。
(2).配置高精度CCD圖像監控系統，實現光學對焦及實時曝光補償，方便用戶監控打印過程中異常。
(3).采用圖像拼接成型方式解決成型精度與大尺寸成型之間的矛盾。
(4).通過工藝技術控制，實現3D打印成品的表面光滑。
nanoArch™ P110 打印參數：
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打印尺寸： |
80x80 mm |
打印技術： |
PμLSE |
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機器尺寸： |
1750x650x1820mm |
操作軟件： |
LabView |
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模型厚度： |
50mm |
操作系統： |
WINDOWS |
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XY方向精度： |
2 um |
文件格式： |
PNG/STL |
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Z方向精度： |
10 um |
輸入電壓： |
220V /50HZ |
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打印耗材： |
光敏樹脂 |
機器功率： |
3000W |
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環境溫度： |
25±2℃ |
機器重量： |
500KG |
使用材料：
耗材要求：兼容各種中、低粘度405nm波長光固化樹脂體系
應用行業：
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1 科研類 |
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? X.Zheng, W.Smith, J.Jackson, B.Moran, H.Cui, D.Chen, J.Ye, N.Fang, N.Rodriguez, T.Weisgraber & C.M.Spadaccini, "Multiscale Metallic Metamaterials", Nature Materials,15(10):1100 (2016) |
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? X. Zheng, H. Lee, T. H. Weisgraber, M. Shusteff, J. DeOtte, E. B. Duoss, J. D. Kuntz, M.M. Biener, Q. Ge, J. A. Jackson, S. O. Kucheyev, N. X. Fang, C. M. Spadaccini, “Ultralight, ultrastiff mechanical metamaterials”, Science, Vol 344(6190), 1373-7(2014). |
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? Z.Liu, H.Lee, Y.Xiong, C.Sun,and X,Zhang, "Far-Field Optical Hyperlens Magnifying |
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? N.Fang, H.Lee, C.Sun, and X.Zhang, "Sub-Diffraction-Limited Optical Imaging with a Silver Superlens", Science, 308(5721), pp534-537, (2005) |
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2輕量化材料 |
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應用領域：航空/航天/汽車 |
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3光學元器件 |
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應用領域：手機/VR/相機 |
希望南京大學師生可以利用nanoArch™ P110研究出更偉大的案例，給中國科學研究帶來更多捷報，提升中國在國際高精密加工技術領域的雄厚實力！
